린데그룹, Voltaix 사 디실란 플랜트 투자

린데그룹의 글로벌 전자 사업부는 Voltaix사의 미국 펜실베니아 주에 위치한 초 고순도 디실란 플랜트에 투자한다고 밝혔다.

Voltaix사는 반도체 및 태양광 산업에 필요한 재료를 생산하는 회사로 린데는 차세대 낸드플래시 메모리 칩 생산에 필요한 대량의 디실란(Si2H6) 생산을 위해 Voltaix사와 파트너쉽을 체결했다.

스마트폰과 태블릿 pc와 같은 기계들의 기능 추가 및 성능의 향상은 더 큰 용량의 낸드 플래시와 D램 메모리 칩 수요를 창출했다. 이러한 진보된 메모리 칩의 제작은 끊임없이 더 작은 임계치수가 요구되며, 이는 초박막 비정질 또는 다결정 실리콘 막의 증착과 연결된다. 이미 몇몇 새로운 소재들은 이러한 막들의 균일성 향상을 위해 산업에서 사용되고 있다.

그러한 소재 중의 하나인 디실란은 전통적으로 사용되던 모노실란 보다 상당한 프로세스 개선을 제공해 5nm 미만 두께의 고품질 실리콘 필름 증착에 있어 저온 공정이 가능하다는 이점을 제공한다.

린데가 투자한 이 플랜트는 연간 40 톤의 규모의 디실란을 생산할 수 있으며, 이는 주요 메모리 제조사들로 하여금 빠르게 성장하는 수요에 맞춰 낸드 플래시와 D램 메모리 칩 생산량 증가를 가능하게 할 것으로 전망되고 있다.

린데그룹의 전자사업 특수가스사업부 총괄인 홀거 키르크너는 “린데와 Voltaix사의 이번 파트너십은 차세대 메모리 디바이스 제조에 있어서 혁신적인 지원을 가능하게 할 것이며, 포틀랜드에 위치한 대규모의 이 플랜트 덕분에 우리는 전자 산업에 있어 선도적인 가스 전문 공급 업체로서의 위치를 강화하고, 초 고순도 디실란에 대한 전 세계 낸드플래시 메모리 칩 제조업체들의 현재와 미래의 수요를 충족시킬 수 있는 이상적인 위치를 점하게 됐다”고 말했다.

Voltaix 사의 CEO 닥터 피터 스미스는 "Voltaix 사는 우리의 주요 파트너인 린데 전자사업부의 도움을 통해 디실란 대량 생산에 있어 선도적인 위치를 점하게 될 것이다"며 "디실란은 메모리 및 논리 소자 (logic device) 에 있어서 저온 폴리 실리콘 증착에 중요한 소재이며 디실란의 다양한 기능은 기존의 퍼낸스 (batch furnace) 장비와 싱글 웨이퍼 장비에서의 사용을 가능하게 하고, 더 높은 증착률로 인해 모노실란 사용 대비 생산량 증가를 제공한다"고 말했다.

Voltaix 사에 대한 이번 투자는 린데로 하여금 향후 몇 년간 디실란 공급이 가능하게 할 뿐만 아니라 20nm 미만 디바이스에서 예상되는 가파른 수요 성장에 부응할 수 있는 상당한 공급 능력을 제공할 것으로 보인다.

IHS의 애널리스트 디 응웬은 "2012년에 공급 과잉과 글로벌 수요의 부진으로 인한 침체 이후, 낸드플래시 시장은 2013년 다시 성장세가 반등해 237억 달러의 매출 규모에 도달할 전망이며, 2016년까지 7.2 퍼센트의 성장세를 기록할 것으로 예상된다"고 밝혔다. 그는 특히 "낸드플래시 시장은 스마트폰, 태블릿 pc, 울트라북과 같은 컨슈머 디바이스 제품군에 대한 더 큰 이동성을 선호하는 추세에 힘입어 수혜를 입을 것으로 예상된다"고 말했다.